くし型パターンのマイグレーション試験結果
くし型電極にある表面処理を施した場合の耐マイグレーション性能を評価した事例をご紹介いたします。
４つの種類の表面処理について、それぞれ５つの試験サンプルを準備して試験を行いました。
| サンプル概要 |
| サンプルA | 表面処理の無いくし型パターン基板。リファレンスとして評価。 |
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| サンプルB | サンプルAに新しい技術を用いた表面処理（開発後期）を施したもの。 |
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| サンプルC | サンプルAに新しい技術を用いた表面処理（開発初期）を施したもの。 |
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| サンプルD | サンプルAに従来の表面処理を施したもの。 |
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| 試験条件 |
| 試験環境 | 温度：85℃， 湿度：85％ |
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| 試験時間 | 1000時間 |
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| 試験電圧 | 50V（固定） |
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| 収録間隔 | 30分（定期データ収録） 16m秒（NG検出時） |
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| NG設定 | 1MΩ |
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| 計測データ |
 | サンプルA（リファレンス）
殆どのサンプルにて200GΩ以上の抵抗値を安定して維持しNGは検出されなかった。 |
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 | サンプルB（新技術_開発後期）
２つのサンプルで絶縁劣化が見られたが、その他のサンプルは全時間にわたり良好な絶縁性能を維持した。 |
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 | サンプルC（新技術_開発初期）
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 | サンプルD（従来技術）
全体的に絶縁劣化の兆候が少なく安定していた。ただし、絶縁抵抗値の大きさは新開発品に劣る。 |
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＊各グラフはクリックすると拡大表示されます。 試験結果の評価
新開発の表面処理は従来の処理と比較して絶縁抵抗値が高く、表面処理無しの状態と比較しても遜色の 無い高抵抗値を示しました。
開発後期の表面処理は初期に比べて耐マイグレーション性能のバラつきが改善されており信頼性が向上していることが確認できました。
従来の表面処理は絶縁抵抗値そのものは低いものの信頼性が高い結果となりました。
| 絶縁性能 | 耐マイグレーション性能 | 仕上がりの均一性 |
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サンプルA | ◎（200GΩ以上） | ◎ | ◎ |
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| サンプルB | ◎（200GΩ以上） | ○ | △ |
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| サンプルC | ◎（200GΩ以上） | × | × |
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| サンプルD | ○（10GΩ以上） | ○ | ○ |
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本実例に見るJ-RAS受託試験の特長
以下の特長によりお客様に大変ご満足いただける試験結果となりました。
■特長１ 格段にノイズに強く安定した高抵抗値の計測データ
リファレンスの櫛形パターンとの絶縁性能の比較が容易に行え、それぞれの表面処理が与える影響が把握できました。これにより、単なる絶縁劣化についてのOK、NGの結果以上に開発検証に役立つデータが得られました。
★従来のテスターではノイズの影響や分解能などの問題で高抵抗領域での差異が把握できない事があります。
■特長2 瞬間的な絶縁劣化を見逃さない高速サンプリング処理
リークタッチ現象による一時的な絶縁劣化を多数捕らえて信頼性の高い評価結果が得られました。 本試験では６つのサンプルでNGレベル以下の抵抗値を検出しましたがそのうちNGレベルを下回った時間の最小は約200msecでした。
★従来のテスターではスキャン処理やサンプリング速度の問題で瞬間的な絶縁劣化が検出できない事があります。
【計測データはお客様に御承諾を頂いた上公開させて頂いております】